用于在超净条件下进行制造的组合式建筑物和传送结构   




申请专利号 CN94104367.3  
专利申请日 1994.04.18  
名称 用于在超净条件下进行制造的组合式建筑物和传送结构   
公开(公告)号 CN1106887
公开(公告)日 1995.08.16  
类别 固定建筑物(建筑、采矿)
颁证日  
优先权 1993.9.14 US 121,621
申请(专利权) 塞米泰克股份有限公司  
地址 美国德克萨斯州 
发明(设计)人 理查德·G·斯科特; 克雷格·R·沙克尔顿; 雷蒙德·W·埃利斯  
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
专利代理机构 上海专利商标事务所  
代理人 孙敬国  
摘要
一种用于半导体制造设施的建筑物,具有圆形多层结构。一筒仓位于其中央位置,用于存储晶片,以及把晶片输运至每一楼面环绕所述筒仓呈径向分布的各净化室。禁止人员进入此筒仓和净化室,从而防止对晶片的污染。由于净化室结构具有模块特征,可以方便地对净化室进行重新组合,而不会对正在进行中的制造运行产生重大影响。在不需要的时候,由于结构的模块特性,还可以拆除部分设施。  
主权项
一种在超净环境下用于制造微电子器件的建筑物,其特征在于 ,它包括:一带有中央控制区的中央封闭装置,用于分散材料 ,进行所述微电子器件的制造;一楼面;一位于所述楼面上方 的天花板;多面隔离墙,所述多面隔离墙从所述中央封闭装置 沿径向向外幅射,并形成多个环绕所述中央封闭装置的脊柱, 所述隔离墙与所述楼面和所述天花板连接在一起;一面环绕所 述中央封闭装置成同心圆式分布的隔离墙,所述隔离墙与所述 楼面、天花板以及多面隔离墙相连,从而环绕所述中央封闭区 形成成同心圆式分布的多个完全封闭的净化室,所述净化室用 来容纳用于处理所述材料的加工设备;每一所述净化室的环境 与其他所述净化室的环境隔离开,从而在每一所述净化室中形 成一小环境,从而每一所述净化室的环境完善性的破坏不会影 响到其他所述净化室的环境完善性;所述中央封闭装置内和所 述净化室内具有超净空气流或超净气体流,从而保持超净小环 境;所述中央封闭装置有一开向每一所述净化室的开孔,用来 在所述中央封闭装置和所述净化室之间传送所述材料;一与所 述中央封闭装置相连的自动材料支架,用来在所述中央封闭装 置内,在所述中央封闭装置和通过所述开孔的所述净化室之间 输运所述材料;所述材料被输运到各净化室,用来在所述超净 环境中进行加工。