| 【申请（专利）号】 |
【名称】 |
【发明（设计）人】 |
【地址】 |
【公开（公告）日】 |
【详细】 |
| CN87104464.1 |
制版印刷合成彩色立体图象的方法 |
张大争; 张志刚; 刘平 |
河北省石家庄市裕华中路1号 |
1989.01.04 |
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| CN88103167.4 |
平板制版装置 |
草柳孝次; 西山∴雄; 矢部进一; 长田圭司; 安田直行; 仓野内俊文 |
日本神奈川县 |
1989.01.11 |
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| CN87105681.X |
角度尺全光刻法及其夹具 |
李文玉 |
吉林省长春市东风大街44号 |
1989.03.08 |
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| CN88104559.4 |
获得具有超薄保护层的照相压印板的方法 |
阿梅里卡斯·克里斯托弗·瓦伊塔尔 |
美国特拉华州 |
1989.03.22 |
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| CN88107055.6 |
制作射线平版印刷用的掩膜的方法 |
安吉莉卡·布伦·斯; 沃尔德马·戈茨; 玛格列特·哈姆斯; 雷尔格·路夫耶 |
荷兰 艾恩德霍芬 |
1989.03.22 |
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| CN87106392.1 |
一种胶印材料 |
包荫岩 |
北京市东升纺织机械配件厂(学院路皇亭子) |
1989.04.05 |
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| CN93102616.4 |
彩色析像器 |
沼仓孝; 沼仓严 |
日本东京 |
1994.09.14 |
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| CN93102617.2 |
图像的灰度等级变换法 |
沼仓孝; 沼仓严 |
日本东京 |
1994.09.14 |
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| CN93105471.0 |
双面对版曝光机 |
武世香; 邹斌; 陈士芳 |
150006黑龙江省哈尔滨市西大直街166号 |
1994.11.09 |
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| CN94101256.5 |
固体感光树脂版粘合层涂布工艺 |
赵效杰 |
300222天津市河西区一号路41号 |
1994.11.23 |
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| CN94102363.X |
抗潜像衰变的远紫外敏感抗光蚀剂 |
Ｒ·Ｍ·拉扎勒斯; Ｔ·Ａ·克斯 |
美国伊利诺斯州 |
1994.12.21 |
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| CN93108166.1 |
静电制版的半色调技术方法 |
黄天甫; 张平 |
430070湖北省武汉市珞喻路39号 |
1995.01.04 |
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| CN93118563.7 |
一种制作凸印版的方法 |
安荣斋 |
064200河北省遵化市通华街12号 |
1995.04.26 |
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| CN94102642.6 |
感光性树脂 |
宫崎忠一; 水盛正英; 本村美树 |
日本京都府 |
1995.05.03 |
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| CN93115250.X |
一种微米、亚微米电子束曝光机工作台的吊装系统 |
周振华; 王国瑕; 赵冬青; 周锋 |
250014山东省济南市经十路73号 |
1995.06.14 |
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| CN93120045.8 |
蜂房式网点结构 |
庞多益; 庞也驰 |
100036北京市海淀区翠微北里7楼608号 |
1995.06.21 |
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| CN94110786.8 |
去胶剂组合物 |
曹宝成; 计峰; 马洪磊; 罗升旭 |
250100山东省济南市山大南路27号 |
1995.06.21 |
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| CN94100074.5 |
光子去胶机 |
谈凯生 |
100080北京市中关村路17号 |
1995.07.19 |
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| CN94101568.8 |
简易制版方法及其装置 |
方进雄 |
台湾省屏东市工业区工业路24号 |
1995.08.09 |
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| CN94118622.9 |
含有氨基丙烯酸酯中和的粘合剂的带水光刻胶 |
Ｄ·Ｅ·伦迪; Ｒ·Ｋ·巴尔; Ｔ·Ｎ·特拉 |
美国伊利诺伊州 |
1995.08.16 |
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| CN94118621.0 |
具有聚硅氧烷的带水刻胶 |
鲁贝脱·Ｋ·巴尔; 基因Ａ·梯利科 |
美国伊利诺伊州 |
1995.08.16 |
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| CN94113848.8 |
含具有磺酸官能度的带水光刻度 |
Ｓ·Ｅ·博汤姆莱; Ｄ·Ｅ·伦迪; Ｂ·达达赫; Ｒ·Ｋ·巴尔 |
美国伊利诺伊州 |
1995.08.30 |
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| CN94113847.X |
含有非离子氟代烃表面活性剂的水性光刻胶 |
鲁贝脱·Ｋ·巴尔 |
美国伊利诺伊州 |
1995.08.30 |
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| CN94119237.7 |
光刻胶剥离液管理装置 |
中川俊元; 冢田光三; 小川修; 佐藤嘉高; 盐津信一郎 |
日本神奈川县 |
1995.09.20 |
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| CN95100801.3 |
聚合物组合物以及表面脱粘的方法 |
Ｊ·Ｈ·曹; Ｍ·Ｌ·卡特; Ｒ·Ｌ·卡姆夫米勒; Ａ·Ｖ·兰多尔 |
美国乔治亚州 |
1995.10.11 |
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| CN94103513.1 |
一种用混合技术制作X光光刻掩模的方法 |
高士平; 孙宝银; 程秀玲 |
100010北京市东城区大取灯胡同2号 |
1995.10.25 |
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| CN94107232.0 |
用激光制图像的印刷版 |
Ｍ·Ｗ·杨; Ｒ·Ｓ·康加; Ａ·Ｖ·兰多 |
美国纽约州 |
1995.11.15 |
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| CN95101040.9 |
相移掩模及其制造方法 |
金永武; 咸泳穆 |
韩国京畿道利川郡 |
1996.01.17 |
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| CN94190752.X |
无水平版印刷版原版 |
河村建; 津田干雄; 池田宪正 |
日本东京 |
1996.01.17 |
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| CN94114954.4 |
彩色喷墨制版系统 |
孙晓松 |
100021北京市劲松七区719楼1门201 |
1996.01.31 |
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| CN94120780.3 |
蚀刻闪光灯成象 |
道格拉斯Ｓ·邓恩; 杰弗里Ｂ·希尔; 安德鲁Ｊ·乌德柯克 |
美国明尼苏达州 |
1996.01.31 |
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| CN95104762.0 |
利用相移掩模技术的光学制版方法 |
克里斯托弗·Ａ·斯彭斯 |
美国加利福尼亚州 |
1996.01.31 |
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| CN95104778.7 |
制造网板印刷模板的方法和设备 |
西格弗里德·吕克尔; 哈拉尔德·卡普芬格尔 |
奥地利库夫施泰因 |
1996.01.31 |
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| CN95102281.4 |
曝光掩模 |
黄∴ |
韩国京畿道利川郡 |
1996.02.14 |
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| CN95107256.0 |
为微型机械装置提供牺牲分隔层的方法 |
詹姆斯·Ｃ·贝克; 斯科特·Ｈ·普伦格 |
美国德克萨斯州 |
1996.02.21 |
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| CN95107303.6 |
用于光敏抗蚀剂层的显影剂 |
Ｋ·Ｖ·沃尔登; Ｍ·艾特根 |
联邦德国法兰克福 |
1996.02.28 |
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| CN94191288.4 |
高温稳定可感光成像组合物的新母体树脂 |
R·R·达迈尔; Ｏ·Ｂ·埃文斯 |
美国新泽西 |
1996.03.06 |
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| CN94118243.6 |
光掩膜 |
∴相满 |
韩国京畿道利川郡 |
1996.03.13 |
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| CN95107777.5 |
光掩模及其制造方法 |
长谷川升雄; 寺泽恒男; 福田宏; 早野胜也; 今井彰; 茂庭明美; 冈崎信次 |
日本东京 |
1996.03.13 |
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| CN94191324.4 |
着色感光性树脂组合物 |
工藤隆范; 野崎优子; 长尾一矢; 南条有纪; 冈崎博; 木下义章; 增田诚也;
帕德马纳班·穆尼拉斯那; 末广夏美 |
日本东京 |
1996.03.13 |
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| CN94116129.3 |
具有联合增稠剂的带水光刻胶 |
罗伯特·Ｋ·巴尔 |
美国伊利诺斯 |
1996.03.20 |
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| CN95103125.2 |
曝光方法及其装置 |
井上隆史; 长野宽之; 石井好道 |
日本大阪府门真市 |
1996.04.17 |
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| CN94191725.8 |
过程控制的方法和设备 |
杰拉尔德·Ａ·Ｊ·雷诺兹; 乔纳森·哈利德 |
英国格温特 |
1996.04.17 |
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| CN95101151.0 |
光掩膜及其制造方法 |
韩宇声; 孙昌镇 |
韩国京畿道 |
1996.04.24 |
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| CN95107005.3 |
正性光刻胶 |
唐谦; M·劳斯 |
瑞士巴塞尔 |
1996.04.24 |
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| CN94116895.6 |
无极网点技术 |
李洪; 贺海林; 林介方 |
519015广东省珠海市九洲大道中段特区报社科源大厦三楼 |
1996.05.08 |
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| CN95115216.5 |
用于制造半导体器件的光掩模的制造方法 |
黄∴ |
韩国京畿道 |
1996.05.29 |
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| CN95101282.7 |
制造全息彩虹卷材纸的方法 |
周雷 |
100088北京市海淀区红联北村8号楼12层4号 |
1996.07.31 |
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| CN95118316.8 |
光敏树脂组合物 |
工藤隆范; 野崎优子; 长尾一矢; 南条有纪 |
日本东京 |
1996.08.07 |
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| CN95190478.7 |
印刷版用感光性树脂组合物和感光性树脂版材 |
∴尾重虎 |
日本东京都 |
1996.08.14 |
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| CN95100463.8 |
一种量子线超微细图形的制作方法 |
付绍军; 夏安东; 洪义麟; 田杨超; 胡一贯; 陶晓明; 阚娅; 张新夷 |
230026安徽省合肥市金寨路96号 |
1996.09.04 |
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| CN95119744.4 |
负型光致抗蚀剂及形成光致抗蚀图的方法 |
岸村真治 |
日本东京 |
1996.09.25 |
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| CN95117362.6 |
处理光刻工艺中产生的废液的方法 |
Ａ·Ｃ·比哈特; Ｇ·Ｓ·克塞纳克; Ｋ·Ｉ·帕佩瑟马斯; J·A·舒特莱夫;
J·J·瓦格纳 |
美国纽约 |
1996.10.02 |
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| CN94193743.7 |
改进的顶层防反射涂膜 |
Ｓ·扎恩; Ｒ·方克 |
美国新泽西 |
1996.10.09 |
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| CN95104294.7 |
聚酯预涂感光版及其制造方法 |
李三保 |
100871北京市北京大学承泽园101楼201室 |
1996.11.06 |
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| CN96103593.5 |
新颖聚合物及用于可光成象的组合物中 |
Ｊ·Ｊ·布里古格里欧; Ｃ·Ｒ·基尔; Ｖ·Ｍ·塔拉; Ｅ·Ｊ·Ｊｒ·里尔登;
Ｒ·Ｗ·考茨 |
美国伊利诺斯州 |
1996.11.13 |
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| CN95106264.6 |
一种印字照片的拍摄方法 |
孙钰顺 |
061000河北省沧州市风化店乡吉庆摄影部 |
1996.12.11 |
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| CN95106761.3 |
紫外传感膜及其制法和用途 |
王艳乔; 陈柳生; 邱家白; 邸振文; 杜金环 |
100080北京市海淀区中关村北1街2号 |
1997.01.01 |
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| CN95116697.2 |
接触型热卡盘及其制造方法 |
任街淳; 沈∴辅; 姜炳珍; 金相元 |
韩国京畿道 |
1997.01.08 |
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| CN95121173.0 |
利用中介层将薄膜层制成图样的方法 |
卢载遇 |
韩国汉城 |
1997.01.08 |
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| CN95191552.5 |
采用离轴照明用来光刻布线图案的掩模版 |
郑江丰; 詹姆斯·A·马修斯 |
美国加利福尼亚 |
1997.01.15 |
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| CN96108446.4 |
用于喷砂保护层的光敏树脂组合物 |
竹花宏; 山本哲郎; 带谷洋之; 水泽龟马 |
日本大阪府 |
1997.01.22 |
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| CN94194800.5 |
制造锥形的光聚合波导阵列的方法 |
K·W·贝森; S·M·兹姆尔曼; P·M·弗姆; M·J·麦克法兰德 |
美国新泽西州 |
1997.01.22 |
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| CN95115738.8 |
用于一步法印刷板的表面涂层 |
詹姆斯Ｐ·加德纳Ｊｒ; 理查德Ａ·约翰逊; 伦纳德Ｊ·斯图克; 旦尼斯Ｅ·沃格尔 |
美国明尼苏达州 |
1997.01.29 |
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| CN95109260.X |
蚀刻规版直接蚀刻工艺 |
唐克强 |
437600湖北省通山县城关新城路14号 |
1997.02.05 |
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| CN96108930.X |
感热式制板装置的光照射装置 |
菊池诚 |
日本东京都 |
1997.02.05 |
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| CN95102950.9 |
制造光掩模的方法 |
黄俊 |
韩国京畿道 |
1997.02.19 |
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| CN95116223.3 |
多功能光接收器 |
金相哲 |
韩国庆尚南道 |
1997.02.19 |
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| CN95192017.0 |
稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用 |
J·S·哈罗克; A·F·贝克奈尔; C·L·艾纳; D·J·哈特 |
美国纽约州 |
1997.02.19 |
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| CN95109580.3 |
形成光致抗蚀图形的方法 |
全∴成; 李容爽; 白基镐 |
韩国京畿道 |
1997.03.05 |
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| CN95115599.7 |
在基片上形成聚酰亚胺图案的方法 |
崔在伍 |
美国纽约州 |
1997.03.12 |
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| CN95191612.2 |
光掩模坯料 |
H·U·阿尔培; R·H·弗伦奇; F·D·卡尔克 |
美国特拉华州 |
1997.03.12 |
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| CN95192416.8 |
彩色印刷工艺和产品 |
马修·贝尔纳斯科尼 |
澳大利亚新南威尔士州 |
1997.03.12 |
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| CN96110910.6 |
含环氧树脂的水中可光成象的组合物 |
Ｅ·Ｈ·麦瑞亚; Ｌ·肖恩; Ｓ·Ｍ·帕特里克 |
美国伊利诺斯州 |
1997.03.19 |
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| CN95192672.1 |
感光性树脂组合物 |
田中真二; ∴下胜利; ∴尾重虎 |
日本东京都 |
1997.03.26 |
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| CN95117366.9 |
彩色析像器 |
沼仓孝; 沼仓严; 北∴进 |
日本东京都 |
1997.04.02 |
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| CN95117387.1 |
曝光装置 |
斋藤努 |
日本东京都 |
1997.04.02 |
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| CN95115916.X |
相移掩模 |
许翼范 |
韩国京畿道利川郡 |
1997.04.09 |
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| CN95193040.0 |
感光性树脂组合物及其用于涂膜、抗蚀印色、抗蚀保护膜、焊料抗蚀保护膜和印刷电路基片 |
桥本壮一; 铃木文人 |
日本京都府宇治市 |
1997.04.16 |
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| CN95112730.6 |
静电印制板制版法 |
刘治发 |
210013江苏省南京市古平岗20号4幢202室 |
1997.04.23 |
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| CN96109482.6 |
光敏树脂组合物 |
邹明仁 |
台湾省台北市 |
1997.04.23 |
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| CN96108269.0 |
用于扩散法制图的组合物 |
约翰·詹姆斯·法尔顿; 瓦尔特·雷蒙德·黑特勒; 马叔华 |
美国特拉华州 |
1997.04.23 |
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| CN95117364.2 |
彩色复制图像的色调管理调整方法 |
沼仓孝; 沼仓严; 北∴进 |
日本东京都 |
1997.04.30 |
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| CN95100889.7 |
强紫外激光防伪技术 |
文小明; 林理忠; 舒立金 |
650091云南省昆明市翠湖北路52号 |
1997.05.07 |
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| CN95193140.7 |
可干法显影的正性抗蚀剂 |
里塞·塞兹; 雷纳·勒施纳; 霍斯特·博恩多弗尔; 伊娃-玛丽亚·里瑟尔;
迈克尔·西博尔德; 赫尔穆特·阿奈; 西格弗雷德·伯克利; 埃伯哈德·库恩 |
联邦德国慕尼黑 |
1997.05.07 |
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| CN95119186.1 |
分步曝光机的光控制装置 |
曹∴燮; 张桓寿; 吉明君 |
韩国京畿道 |
1997.05.21 |
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| CN95116359.0 |
目的物位置和斜度控制装置 |
金相哲 |
韩国庆尚南道 |
1997.05.28 |
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| CN95118599.3 |
光刻方法和用于实现此方法的光刻系统 |
金政会; 吉明君; 权元泽; 金光哲 |
韩国京畿道 |
1997.06.04 |
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| CN96112248.X |
曝光方法和曝光设备 |
手∴达郎 |
日本东京都 |
1997.06.11 |
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| CN96114465.3 |
投影曝光设备及其方法 |
宋在宽; 文常荣; 朴庆信; 宋昊钟 |
韩国京畿道 |
1997.06.18 |
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| CN96100312.X |
超高道密度伺服信息极坐标光刻系统、方法及设备 |
张江陵; 倪浆铭; 周功业; 黄益森; 贾连兴 |
430074湖北省武汉市武昌珞瑜路1037号 |
1997.06.18 |
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| CN95120373.8 |
利用磁致伸缩致动器进行制版的装置及方法 |
里斯特·Ｗ·巴歇尔 |
美国俄亥俄州 |
1997.07.02 |
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| CN95121810.7 |
一种快速丝网感光膜及其合成方法 |
戴巍泉 |
200071上海市海宁路696弄704号 |
1997.07.02 |
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| CN96122763.X |
肟磺酸酯及其作为潜在磺酸的应用 |
Ｋ·笛特里克; Ｍ·库茨 |
瑞士巴塞尔 |
1997.07.09 |
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| CN95121855.7 |
生产电子源基片以及带有该基片的图像形成设备的方法 |
柳泽芳浩; 金子哲也 |
日本东京都 |
1997.07.23 |
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| CN96103081.X |
显像管制造用曝光装置 |
长野宽之; 井上隆史; 上野和夫; 持田省郎; 上田修治 |
日本国大阪府 |
1997.08.06 |
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| CN96102939.0 |
照明装置及使用它的曝光方法 |
长野宽之; 井上隆史; 山下博; 佐藤健夫; 藤田佳∴ |
日本大阪府 |
1997.08.13 |
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| CN96190607.3 |
感光性膏状物、等离子体显示器及其制造方法 |
井口雄一朗; 正木孝树; 岩永庆二 |
日本东京都 |
1997.08.13 |
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| CN96114150.6 |
有机碱催化的无显影气相光刻胶 |
王培清; 卢建平; 洪啸吟; 陈永麒 |
100084北京市海淀区清华园 |
1997.08.20 |
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| CN96123105.X |
形成微图案的光照方法和装置 |
全成镐; 李圣默; 赵倍斗 |
韩国京畿道 |
1997.09.24 |
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| CN95195852.6 |
正性光敏组合物 |
M·D·拉哈马; D·P·奥宾 |
美国新泽西州 |
1997.10.08 |
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| CN96122535.1 |
用于数字印刷的中心线去混叠 |
格哈德·Ｐ·德福纳; 法德拉曼纳迪·范卡特斯瓦尔 |
美国得克萨斯州 |
1997.10.15 |
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| CN97102492.8 |
用于光敏树脂印板的显影剂和制备光敏树脂印板的方法 |
吉田正宏; 藤冈健治 |
日本大阪府 |
1997.10.15 |
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| CN96106894.9 |
相移掩模及其制造方法 |
∴相满 |
韩国京畿道利川市 |
1997.10.22 |
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| CN97103156.8 |
制造彩色预打样和在其中有用的中间接收元件及顶板的方法 |
Ｒ·Ｊ·卡普斯尼亚克; Ｃ·Ｃ·坎贝尔; Ｌ·Ｐ·佩特; Ｄ·Ａ·尼迈耶 |
美国纽约州 |
1997.10.22 |
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| CN96107263.6 |
制造曝光掩模的方法 |
∴相满 |
韩国京畿道 |
1997.11.05 |
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| CN96111014.7 |
光掩模的图形结构 |
黄∴ |
韩国京畿道 |
1997.11.12 |
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| CN96120199.1 |
线状丝网印刷的二维调制 |
范德拉马那提·梵科特斯沃 |
美国得克萨斯州 |
1997.11.12 |
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| CN97109583.3 |
一种定位周期配置的亚微米物体的自动化和非可见方法 |
雷纳·韦兰 |
德国慕尼黑 |
1997.11.19 |
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| CN97111184.7 |
正型光敏树脂组合物和使用它的半导体装置 |
平野孝; 番场敏夫; 真壁裕明; 竹田直滋; 竹田敏郎 |
日本东京都 |
1997.11.26 |
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| CN97111188.X |
用于支持平板曝光装置布线图的设备 |
阿莱·索莱尔; 瑟格·查博尼尔 |
法国雷维尔 |
1997.11.26 |
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| CN96191526.9 |
正性光致抗蚀剂的显影方法和所用的组合物 |
S·A·菲斯尔; J·迈威斯; C·F·莱昂斯; W·M·莫里尤; M·V·普拉特 |
美国新泽西 |
1997.12.17 |
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| CN97110513.8 |
含有丙烯酸官能团UV稳定剂的光成象组合物 |
Ｋ·Ｂ·罗伯特; D·N·特兰格 |
美国伊利诺斯州 |
1997.12.24 |
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| CN96102721.5 |
相移掩膜及其制造方法 |
∴相满 |
韩国汉城 |
1998.01.07 |
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| CN97111563.X |
通过布线图曝光双面印刷电路板的装置 |
阿莱·索莱尔; 瑟格·查博尼尔 |
法国雷维尔 |
1998.01.14 |
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| CN95197179.4 |
采用极性溶剂中的离子交换树脂降低金属离子含量的方法 |
M·D·拉曼; D·P·奥宾; D·N·坎纳; D·麦肯泽 |
美国新泽西 |
1998.01.28 |
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| CN95197187.5 |
低金属离子含量的对－甲酚低聚物和光敏的组合物 |
M·D·拉曼; D·N·坎纳; D·P·奥宾; D·迈肯泽 |
美国新泽西 |
1998.01.28 |
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| CN96191676.1 |
张力臂显像器装置 |
小朱利叶斯·戴维·金; 汤米·拉尼 |
美国俄亥俄州 |
1998.02.04 |
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| CN96111479.7 |
改良光阻材料及其制备方法 |
童华苏; 胡俊民; 俞有中 |
台湾省台北市中山北路三段22号 |
1998.02.11 |
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| CN96111482.7 |
用于阴极射线管的含光敏组分的改良光阻材料及其制备方法 |
童华苏; 胡俊民; 俞有中 |
台湾省台北市中山北路三段22号 |
1998.02.11 |
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| CN97109682.1 |
紫外线可固化的组合物和从其制备固化产物图案的方法 |
Ｂ·Ｒ·哈克尼斯; 立川守; 竹内霞 |
日本神奈川县 |
1998.02.11 |
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| CN96120563.6 |
多束电子光刻系统的电子柱光学器件 |
Ｎ·威廉帕克 |
美国加利福尼亚州 |
1998.02.11 |
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| CN97115414.7 |
光刻胶组合物 |
俞升∴; 林翼哲; 金昌昱; 姜纪旭 |
韩国京畿道 |
1998.02.18 |
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| CN97111920.1 |
一种阴图预涂感光版及其制法 |
曹维孝; 罗∴; 王仁祥 |
100871北京市海淀区中关村北京大学 |
1998.02.18 |
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| CN96191853.5 |
光敏化合物 |
A·卡尼泽; S·A·菲克纳; P-H·卢; W·斯派丝 |
美国新泽西 |
1998.02.18 |
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| CN96116473.5 |
用于含聚氨酯组合物的刻蚀技术 |
谢静薇; 江明; 张勤; 叶惠娟; 卢文奎; 谢文炳; 王浩 |
100029北京市朝阳区惠新东街甲6号 |
1998.02.25 |
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| CN97110797.1 |
光刻胶剥离液管理装置 |
中川俊元; ∴田光三; 小川修; 宝山隆博; 西∴佳孝 |
日本神奈川县 |
1998.02.25 |
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| CN96191933.7 |
移相掩模及其制造方法 |
∴昭彦; 小林良一; 吉冈信行; 渡壁弥一郎; 宫崎顺二; 成松孝一郎; 山下重则 |
日本秩父市 |
1998.02.25 |
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| CN97118239.6 |
改进光象质量的方法 |
Ｃ－Ｈ·常; Ａ·玛; Ｔ·Ｈ·恩吉因; Ｈ·Ｊ·艾弗斯; Ｈ·Ｓ·拉弗 |
瑞士巴塞尔 |
1998.03.18 |
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| CN97121389.5 |
树脂刻蚀溶液和刻蚀方法 |
铃木笃; 相本真由美; 久保田隆; 秋田雅典; 伊藤∴司 |
日本大阪 |
1998.04.01 |
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| CN97111419.6 |
采用乙烯吡咯烷酮聚合物的可水显影光敏厚膜组合物 |
Ｔ·Ｒ·修斯 |
美国特拉华州 |
1998.04.22 |
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| CN95113128.1 |
刻线片预校正装置及预校正方法 |
金成郁 |
韩国庆尚南道 |
1998.04.29 |
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| CN97119099.2 |
新的光致抗蚀剂共聚物 |
郑载昌; 卜哲圭; 金亨基 |
韩国京畿道 |
1998.05.06 |
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| CN97119096.8 |
敏射线组合物 |
武田贵志 |
瑞士穆滕茨1(CH－4132茹索茨街61号) |
1998.05.06 |
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| CN97122568.0 |
化学增强的抗蚀组合物 |
姜律; 崔相俊; 郑东垣; 朴春根; 高永范 |
韩国京畿道 |
1998.05.13 |
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| CN97190154.6 |
获得剥脱成像图案的方法 |
马克·A·斯帕克; 拉尔夫·R·达默尔; 迈克尔·德普瑞德 |
瑞士幕腾兹 |
1998.05.13 |
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| CN96193512.X |
负片型无处理印版 |
李民育; J·P·加德纳; J·E·克卢格; S·B·米特拉 |
美国明尼苏达州 |
1998.05.20 |
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| CN96193465.4 |
光学设备的照明单元 |
H·范德拉安; J·C·H·马尔肯斯; J·M·D·斯图尔德雷埃 |
荷兰维也德霍芬 |
1998.05.20 |
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| CN97119956.6 |
水性阴图预涂感光版及其制法和用途 |
曹维孝; 杨磊 |
100871北京市海淀区中关村北京大学 |
1998.05.27 |
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| CN96193639.8 |
含酸可漂白的染料的石印印版组合物 |
D·E·沃格尔; R·J·巴尔丘纳斯; J·P·加德纳; G·V·D·蒂耶尔; K·M·沃格尔 |
美国明尼苏达州 |
1998.05.27 |
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| CN95113199.0 |
用由假图形所形成的光刻胶掩模将层精确构图成目标图形的方法 |
佐仓直喜 |
日本东京都 |
1998.06.03 |
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| CN97113629.7 |
用于半导体器件制备的显影设备及其控制方法 |
金东浩; 安雄宽; 朴济应; 李炳官 |
韩国京畿道 |
1998.06.03 |
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| CN97120324.5 |
单组分光成像液体阻焊剂及其制法 |
王尔鉴; 李妙贞; 何勇 |
100101北京市朝阳区大屯路甲3号内 |
1998.06.10 |
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| CN97122191.X |
制作印刷模板的方法和装置 |
拉尔夫·胡贝尔 |
奥地利库夫施泰因 |
1998.06.10 |
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| CN97114183.5 |
高分辨率的正作用干膜光致抗蚀剂 |
托马斯·Ａ·考斯; 格里格·Ｂ·贝尔特拉莫 |
美国伊利诺斯州 |
1998.06.24 |
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| CN97102015.9 |
光敏性树脂组合物成像过程的方法 |
番场敏夫; 竹田敏郎 |
日本东京都 |
1998.07.15 |
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| CN97117225.0 |
一种光敏重氮盐感光剂及其制备方法和应用 |
袁云程; 唐英; 王崇徽; 张福生 |
117000辽宁省本溪市解放北路102号 |
1998.07.22 |
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| CN97125853.8 |
金属表面精密光刻成像材料及其制法和用途 |
李妙贞; 何勇; 聂俊; 王尔鉴 |
100101北京市朝阳区大屯路甲3号内 |
1998.07.29 |
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| CN97190435.9 |
差分干涉仪系统和配有该系统的平版印刷分步扫描装置 |
J·E·范德维尔夫; P·迪尔克森 |
荷兰艾恩德霍芬 |
1998.08.05 |
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| CN98100324.9 |
使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置 |
郑载昌; 卢致亨; 朴柱温 |
韩国京畿道 |
1998.08.26 |
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| CN96195674.7 |
多相光引发剂,可光聚合组合物及其应用 |
S·H·艾尔丁; P·格雷司哈伯; F·莱姆; K·狄特利克 |
瑞士巴塞尔 |
1998.08.26 |
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| CN98100726.0 |
化学增强的光刻胶 |
井谷俊郎 |
日本国东京都 |
1998.09.23 |
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| CN98106176.1 |
使用电子束的图形曝光方法 |
中岛谦 |
日本东京 |
1998.10.21 |
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| CN96197027.8 |
无水平印印版 |
P·A·R·伯奈特; C－A·史密斯 |
英国利兹 |
1998.10.21 |
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| CN96197057.X |
具有低金属离子含量的表面活性剂和由其产生的显影剂的生产方法 |
M·D·拉曼; D·P·奥宾 |
瑞士穆坦兹 |
1998.10.21 |
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| CN98105309.2 |
正色调可光致成像并可交联的涂料 |
R·E·霍金斯; J·J·布拉格格里欧 |
美国伊利诺斯州 |
1998.11.25 |
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| CN97115142.3 |
含紫外反应聚合粘合剂的液态光聚合的焊接掩模组合物 |
李圣雨 |
韩国京畿道 |
1998.11.25 |
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| CN98109690.5 |
光敏树脂组合物和其光敏性的应用 |
天野仓仁; 太田文彦; 小∴立子 |
日本东京 |
1998.12.09 |
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| CN98101487.9 |
使用移动平台的电子束曝光方法 |
小野田中 |
日本国东京都 |
1998.12.09 |
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| CN98106936.3 |
光敏性记录材料的制备方法 |
T·泰尔瑟; S·瓦戈纳; S·菲利普; M·朱尔格 |
联邦德国穆恩斯特 |
1998.12.23 |
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| CN98109835.5 |
感光性化合物,感光树脂组合物,以及使用所述化合物或组合物成像的方法 |
∴谷彻; 谢建荣; ∴泽哲明 |
日本千叶县 |
1998.12.30 |
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| CN98103875.1 |
投影曝光装置及方法、振幅象差评价方法及象差消除滤光器 |
加门和也 |
日本东京都 |
1999.01.06 |
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| CN98103166.8 |
感光性树脂组合物及使用该树脂组合物的显示元件 |
伊丹节男 |
日本大阪府 |
1999.01.20 |
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| CN96199202.6 |
用于正性光刻胶的混合溶剂系统 |
S·F·瓦纳特; M·D·拉曼; D·N·堪那; D·P·奥宾; S·S·笛斯特 |
瑞士穆提茨 |
1999.01.20 |
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| CN96199174.7 |
光敏树脂组合物 |
黄在永; 李炳逸; 朴基振 |
韩国汉城 |
1999.01.20 |
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| CN98109863.0 |
彩色显象管制造用曝光装置 |
增村哲也; 表克己 |
日本神奈川 |
1999.01.27 |
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| CN98116036.0 |
自动原稿运送装置 |
末冈秀规 |
日本东京都 |
1999.01.27 |
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| CN97104658.1 |
对于高粘度光刻胶涂层的无条纹涂敷方法 |
王立铭; 萧国裕 |
台湾省新竹科学工业园区 |
1999.02.03 |
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| CN98115921.4 |
可固化可光致成像的组合物 |
R·E·霍金斯 |
美国伊利诺斯州 |
1999.02.10 |
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| CN98117484.1 |
用于短波长光的负型光致抗蚀剂组合物及其形成图像的方法 |
岩佐繁之; 前田胜美; 中野嘉一郎; 长谷川悦雄 |
日本东京都 |
1999.03.03 |
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| CN97192776.6 |
由于折射率最优化得到的具有改进了性能的光吸收防反射涂层 |
R·R·达姆尔; R·A·诺伍德 |
瑞士穆坦茨 |
1999.03.31 |
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| CN97192752.9 |
三维蚀刻方法 |
D·T·杜顿; A·B·德安 |
英国汉普郡 |
1999.03.31 |
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| CN98120536.4 |
感光纸用荧光打印头 |
中村滋孝; 森岛裕理 |
日本和歌山县 |
1999.04.07 |
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| CN97192868.1 |
通过反常色散改变折射率的底面抗反射涂层 |
拉尔夫·R·达迈尔; 罗伯特·A·诺尔伍德 |
瑞士穆藤斯 |
1999.04.07 |
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| CN98108925.9 |
抗蚀显影方法 |
鲁志坚 |
联邦德国慕尼黑 |
1999.04.14 |
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| CN98116275.4 |
改进的深紫外线光刻技术 |
鲁志坚 |
联邦德国慕尼黑 |
1999.04.14 |
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| CN98117966.5 |
酸性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺 |
段生权; 王培清; 张斌; 王小兵; 陈永麒; 洪啸吟 |
100084北京市海淀区清华园 |
1999.04.21 |
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| CN98117969.X |
碱性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺 |
段生权; 王培清; 张斌; 王小兵; 陈永麒; 洪啸吟 |
100084北京市海淀区清华园 |
1999.04.21 |
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| CN98108312.9 |
抗蚀剂剥离液控制装置 |
中川俊元; 中川光元; 小川修西∴佳孝; 宝山隆博 |
日本神奈川 |
1999.05.05 |
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| CN97193958.6 |
包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物 |
B·L·古德戴尔; S·扎雅拉曼; R·A·希克; L·F·罗迪斯 |
美国俄亥俄州 |
1999.05.12 |
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| CN97192771.5 |
正性光刻胶组合物的热处理方法 |
R·R·达梅尔; 卢炳宏; M·A·斯巴克; O·阿利勒 |
瑞士穆坦茨 |
1999.06.02 |
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| CN98122659.0 |
图像处理装置及方法 |
吴享洙 |
韩国京畿道 |
1999.06.09 |
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| CN98123052.0 |
有改善的粘合性和加工时间的可光成像组合物 |
D·E·伦迪; R·巴尔 |
日本东京 |
1999.06.09 |
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| CN97194799.6 |
光衰减隐蔽的相位移式光掩模半成品 |
P·F·卡思尔; R·H·弗伦奇 |
美国特拉华州威尔明顿 |
1999.06.09 |
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| CN98123055.5 |
含可光聚合氨基甲酸酯低聚物和低玻璃化温度粘合剂的可光成像组合物 |
R·巴尔 |
日本东京 |
1999.06.16 |
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| CN98119381.1 |
一种干膜光刻胶 |
俞在玉; 崔铉硕; 郑一荣; 李炳逸; 朴基振 |
韩国京畿道 |
1999.06.23 |
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| CN98120186.5 |
化学增强的光刻胶 |
井谷俊郎 |
日本国东京都 |
1999.06.23 |
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| CN98123405.4 |
用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜 |
水泽龙马; 中里俊二; 带谷洋之 |
日本神奈川县 |
1999.06.23 |
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| CN97194798.8 |
衰减镶嵌相移光掩模空白片 |
P·F·卡思尔; R·H·弗伦奇 |
美国特拉华州威尔明顿 |
1999.06.23 |
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| CN98123049.0 |
感光树脂组合物及使用了该组合物的感光部件 |
高坂英治; 村上滋 |
日本东京 |
1999.06.30 |
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| CN98123054.7 |
含可光聚合氨基甲酸酯低聚物和二苯甲酸酯增塑剂的可光成像组合物 |
D·E·伦迪; R·巴尔 |
日本东京 |
1999.06.30 |
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| CN97195252.3 |
氨基彩色发色团的金属离子含量的降低及其用于合成光致抗蚀剂的低金属含量抗反射底涂层 |
M·D·拉曼; T·T·汉尼甘; T·J·里恩施 |
瑞士穆提茨 |
1999.06.30 |
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| CN98120683.2 |
感光纸用荧光彩色印刷头 |
中村滋孝; 森岛裕理 |
日本和歌山县 |
1999.07.07 |
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| CN98123053.9 |
有改善的柔性、粘合性和剥膜性的可光成像组合物 |
D·E·伦迪; R·巴尔 |
日本东京 |
1999.07.14 |
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| CN98800465.8 |
有孔曲面电极及其加工方法 |
约汉·R·比迪 |
美国加利福尼亚 |
1999.07.14 |
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| CN98107764.1 |
自动扫描接图的装置与方法 |
柳发中 |
台湾省新竹科学工业园区 |
1999.07.21 |
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| CN98121988.8 |
身份证制证扩印定位装置 |
朱根宝; 巫国寅; 董惠明; 周义 |
200040上海市江宁路685弄106号 |
1999.07.21 |
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| CN97195922.6 |
光聚合热固树脂组合物 |
Y·诺耶马; T·艾多 |
瑞士巴塞尔 |
1999.07.21 |
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| CN97196087.9 |
光掩模坯 |
R·H·弗伦奇; K·G·夏普 |
美国特拉华州威尔明顿 |
1999.07.28 |
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| CN98118329.8 |
可交联的正色性光致成像涂料 |
R·E·霍金斯; J·J·布里格利奥 |
美国伊利诺斯州 |
1999.08.04 |
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